מהו טווח ההפצה של גמישות השחיקה בקולואיד?

הדמיון של טחנת הקולואידים תלוי בעיקר בתכנון המבני, מהירות הסיבוב ותכונות החומר שלה. באופן כללי, גמישות החומר המטופל על ידי טחנת הקולואיד יכולה להגיע לרמת המיקרון או אפילו לרמת הננומטר. באופן ספציפי, עבור מרבית החומרים, טחנת הקולואיד יכולה להשיג גמישות של D90 (90% מקוטר החלקיקים) בין 2-50 מיקרון. טווח זה הופך את טחנת הקולואיד לשימוש נרחב בתחומים מזון, כימי, תרופות ושאר.
ראוי לציין כי טווח חלוקת הגמישות של טחנת הקולואיד אינו ערך קבוע, אלא מושפע מגורמים רבים. לדוגמה, חומרים שונים עשויים לייצר התפלגויות גמיות שונות בגלל הבדלים בתכונות החומר תחת אותו טיפול במפעל קולואיד. בנוסף, המודל, מהירות הסיבוב ותנאי ההפעלה של טחנת הקולואיד ישפיעו גם על התפלגות הגמישות.

מספר הרשת הוא יחידה המשמשת למדידת גודל החלקיקים של החומר. ככל שמספר הרשת גדול יותר, כך גודל החלקיקים עדין יותר של החומר. טווח גודל החלקיקים של הרשת 50-100 הוא גס יחסית ומתאים לתרחישים מסוימים של יישומים שאינם דורשים גודל חלקיקים גבוה. לדוגמה, בתעשיית התרופות ניתן להשלים את הריסוק הראשוני של כמה תרופות סיניות מסורתיות או חומרי גלם כימיים באמצעות מטחנת רשת {1}}.
עם זאת, אם נדרש גודל חלקיקים עדין יותר, כמו מיקרון או אפילו ננומטר, אז טחנת קולואיד תהיה בחירה טובה יותר. לשם השוואה, ניתן לראות כי לטחנת הקולואידים ולמטחנת הרשת 50-100 יש הבדלים ובהשלמות ברורות בעיבוד גודל החלקיקים.